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粉塵游離二氧化硅分析儀

更新日期:2024-11-26

簡要描述:

粉塵游離二氧化硅分析儀依據(jù)國家職業(yè)衛(wèi)生標準中規(guī)定的前處理步驟,自動完成添加焦磷酸、自動加熱攪拌、自動升溫、15分鐘消解過程準確控溫在245℃-250℃、自動降溫、自動注水、自動復溫、自動過濾、自動清洗等功能,整個過程無需人員值守,實現(xiàn)了游離二氧化硅分離前處理的自動化。

型號:HD-Si12點擊量:17

一、儀器功能要求

粉塵游離二氧化硅分析儀依據(jù)國家職業(yè)衛(wèi)生標準《GBZ/T 192.4-2007工作場所空氣中粉塵測定 第4部分:游離二氧化硅含量》中規(guī)定的前處理步驟,自動完成添加焦磷酸、自動加熱攪拌、自動升溫、15分鐘消解過程準確控溫在245℃-250℃、自動降溫、自動注水、自動復溫、自動過濾、自動清洗等功能,整個過程無需人員值守,實現(xiàn)了游離二氧化硅分離前處理的自動化。

二、粉塵游離二氧化硅分析儀的主要技術參數(shù)

*2.1全自動一體機,自動完成加焦磷酸、消解、降溫、過濾、清洗等實驗步驟,滿足國標要求,保證數(shù)據(jù)準確性。

*2.2儀器具有加水后復溫功能,過濾過程中,可對液體實時混勻,混勻速度可調(diào)。

*2.3配備≥12個樣本位,≥12個過濾位。特制玻璃樣品杯,保障樣品快速均勻加熱,特制過濾裝置,耐酸堿耐高溫,實現(xiàn)快速過濾。樣本可連續(xù)上機,實現(xiàn)不停機做樣。

2.4運行過程中無需轉(zhuǎn)移樣品,減少樣品在不同器皿之間轉(zhuǎn)移過程中的損失。

2.5儀器可以自動添加焦磷酸至樣品中,無需手工添加。

2.6儀器具有自動降溫功能,消解后樣品架離開加熱位,完成快速降溫。

2.7自動控溫加熱,10min內(nèi)液體升溫至245℃,15分鐘保持在245℃-250℃。

*2.8采用雙感溫控探頭,實時監(jiān)控液體溫度,控溫精度±0.1℃。

2.9儀器采用一體恒溫加熱模組,各加熱位溫度均勻一致。

2.10儀器采用耐酸堿高精度計量泵,加液精度<1%。

2.11特制攪拌棒,攪拌測溫一體設計,攪拌速度可調(diào)節(jié),保證樣品攪拌均勻。

2.12具有磷酸制備焦磷酸功能,可自動加磷酸,在線制備焦磷酸。

*2.13采用負壓過濾系統(tǒng),兩個樣品可同時過濾,滴液速度和負壓大小均可調(diào)節(jié),快速安全。

2.14儀器內(nèi)置調(diào)試軟件,自動校準加液精度。

2.15儀器自動使用0.1mol/L鹽酸和高溫純化水沖洗樣品杯和殘渣,用戶還可根據(jù)需要選擇清洗次數(shù)和清洗量,足量清洗,提高結(jié)果準確性。

*2.16采用噴頭噴淋清洗樣品杯,保證清洗無殘留。

2.17儀器具有排風裝置,可自動對接排風管道,也可置于通風櫥內(nèi)使用。

2.18儀器具有試劑液量消耗監(jiān)控,低于預警值能夠?qū)崿F(xiàn)人性化提醒,確保實驗有效進行。

2.19儀器內(nèi)置觸摸屏電腦,軟件自動控制,直接編輯輸入信息,無需人工干預。

2.20實驗過程全流程可視,軟件可直觀顯示當前實驗狀態(tài)和進度。

2.21實驗過程中溫度實時顯示,并自動記錄消解攪拌時間。

2.22安全性保護:儀器具有消解加熱過溫保護,整機設備(空氣開關)漏電過流保護。

2.23儀器自動記錄實驗各環(huán)節(jié)過程參數(shù),形成實驗過程記錄,并可支持數(shù)據(jù)打印,導出,數(shù)據(jù)儲存量≥10000 組。

2.24 儀器支持U盤升級,也可選配遠程升級功能,簡化設備固件升級流程,一鍵升級。

3.主要配置清單

3.1全自動游離二氧化硅前處理工作站主機             1臺

3.2 特制樣品杯                                    12個

3.3 特制過濾裝置                                  12個

3.4 硅膠管                                        1套

3.5 廢液桶                                        1個

3.6 試劑桶                                        1個

3.7 實驗用水自動加熱恒溫裝置                      1套

3.8 系統(tǒng)控制軟件                                  1套

3.9 慢性定量濾紙                                  1盒

3.10自動加焦磷酸裝置(選配)                     1套

粉塵游離二氧化硅分析儀



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